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.过氧化氢—硫酸刻蚀新工艺[J].电讯技术，1986，（1）： - .
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.[J].，1986，（1）： - .
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过氧化氢—硫酸刻蚀新工艺
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摘要
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在印刷电路工业中,用过氧化氢—硫酸混合液作为最终刻蚀已获满意的应用。本文讨论了这种刻蚀液用喷淋和浸渍两种方式时正、反两个方面的看法;讨论了溶液中硫酸和过氧化氢浓度、温度、添加剂以及杂质对溶液性能的影响。也谈到了刻蚀液中铜的回收方法。
关键词
:
印刷板刻蚀工艺
DOI：
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Key words
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《电讯技术》编辑部 