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何秀珍.电子工业的新型材料——G21水溶型光致抗蚀干膜[J].电讯技术，1985，（1）： - .
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.[J].，1985，（1）： - .
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电子工业的新型材料——G21水溶型光致抗蚀干膜
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摘要
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本文概述了G21水溶型光致抗蚀干膜(简称G21干膜)光敏性的提高以及干膜光敏性的各种影响因素;介绍了G21于膜的粘结聚合物的改进和胶液组成;文中还讨论了G21干膜的基本性能和应用工艺的问题。
关键词
:
光致抗蚀干膜,研制,应用
DOI：
基金项目
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Abstract
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Key words
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《电讯技术》编辑部 